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两台同一厂家同一型式的X光机对同一物体作相同条件的曝光透照安培KV时 间等均相同
来源: 无损检测技术资格人员考试
发布时间:2021-01-10
题目两台同一厂家同一型式的X光机对同一物体作相同条件的曝光透照安培KV时间等均相同请注意与下面无损检测技术资格人员考试题目有着相似或相关知识点, 两台同一厂家生产的同一型式的X光机对同一物体作相同条件之曝光mAKV曝光时间等均相同则; 两台同一厂家生产的同一型式的X光机对同一物体作相同条件之曝光mAKV曝 光时间等均相同则。
两台同一厂家同一型式的X光机对同一物体作相同条件的曝光透照安培KV时 间等均相同
学习时建议同时掌以下几题,用铱192透照某工件曝光10分钟可获得理想的底片150天后以相同条件用该源 透照同一工件时要获得相同。
192Ir源的半衰期为75天在某时间对某物体透照时的最佳曝光时间为40分钟经过5 个月后用该源对同一。
对某一曝光曲线的使用应按照与曝光曲线相同的条件实施包括使用同一类型的胶片 和相同的X射线机。
相同的知识点,可以不同方式出题,建议一起学习掌握。
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