在空位扩散中如果迁移的空位的原子是杂质原子扩散称为

题目在空位扩散中如果迁移到空位的原子是基质原子扩散属于请注意与下面集成电路制造工艺员题目有着相似或相关知识点, 固体中的扩散模型主要有填隙机制和; HeOHNa等元素在900℃下在二氧化硅中的扩散率大于10－13cm2/s这些元素称为。

在空位扩散中如果迁移的空位的原子是杂质原子扩散称为

学习时建议同时掌以下几题,对于浓度覆盖很宽的杂质原子可以采用方法引入到硅片中。

如果磷在二氧化硅中扩散对扩散率影响最大的因素是。

扩散工艺使杂质由半导体晶片表面向内部扩散改变了晶片所以晶片才能被人们所使用。

相同的知识点，可以不同方式出题，建议一起学习掌握。