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上颌两侧磨牙全部缺失设计支架式可摘义齿修复为防止义齿下沉压迫黏膜制作时要求

来源: 口腔医学技术 (士) 发布时间:2020-06-28

题目患者男48岁右下21左下4缺失右下4左下5为基牙整铸支架可摘义齿修复为暴露天然基牙的龈缘区建议对抗臂请注意与下面口腔医学技术 (士)题目有着相似或相关知识点, 某男性患者49岁缺失为基牙整铸支架可摘义齿修复为暴露天然基牙的龈缘区建议对抗臂尽量设计为; 患者男性63岁651|567缺失右上7余留采取上颌铸造腭杆可摘局部义齿修复两年后腭杆与塑料连接处折断。

上颌两侧磨牙全部缺失设计支架式可摘义齿修复为防止义齿下沉压迫黏膜制作时要求

学习时建议同时掌以下几题,患者下颌局部可摘义齿修复义齿戴用1周后复诊主诉义齿基托压痛口腔内检查发现舌系带根部小溃疡义齿各部分 。

KennedyⅠ类缺损时应用附着体义齿修复的设计与制作应该考虑到游离端缺失义齿在行使功能时黏膜的被动。

在制作义齿及充填塑料时具有防止网状连接体下沉作用的是。

相同的知识点,可以不同方式出题,建议一起学习掌握。

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