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为什么正胶在显影时很容易被去掉
来源: 集成电路技术
发布时间:2017-02-18
题目为什么数字模块和模拟模块在同一衬底上实现容易产生数字模块干扰模拟模块请注意与下面集成电路技术题目有着相似或相关知识点, 什么是正光刻胶负光刻胶; 什么叫阈值电压阈值电压是否可变阈值电压为负时称为什么电压。
为什么正胶在显影时很容易被去掉
学习时建议同时掌以下几题,什么是负光刻胶。
为什么栅介质层的厚度减少有一个大致的极限为什么现在需要高K值介电常数的栅介质低K介质用在什么地方为什。
为什么硅片热氧化结束时通常还要进行氢气或氢-氮混合气体退火。
相同的知识点,可以不同方式出题,建议一起学习掌握。
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