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集成电路是由Kilby和Noyce两人于1959年分别发明并共享集成电路的专利
来源: 集成电路技术
发布时间:2017-02-18
题目世界上第一片集成电路是哪一年在哪儿制造出来的发明人哪一年为此获得诺贝尔奖请注意与下面集成电路技术题目有着相似或相关知识点, 集成电路的发展时代分为中规模集成电路MSI超大规模集成电路VLSI; 集成电路的制造分为五个阶段分别为硅片测试和拣选终测。
集成电路是由Kilby和Noyce两人于1959年分别发明并共享集成电路的专利
学习时建议同时掌以下几题,集成电路常用的材料有哪些分别举例。
双极性集成电路中最常用的电阻器和MOS集成电路中常用的电阻都有哪些。
集成电路制造中掺杂类工艺有和两种。
相同的知识点,可以不同方式出题,建议一起学习掌握。
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