光刻是集成电路制造工艺发展的驱动力

题目集成电路的发展时代分为中规模集成电路MSI超大规模集成电路VLSI请注意与下面集成电路技术题目有着相似或相关知识点, 集成电路制造中掺杂类工艺有和两种; 在集成电路制造工艺中轻掺杂漏LDD注入工艺是如何减少结和沟道区间的电场从而防止热载流子的产生。

光刻是集成电路制造工艺发展的驱动力

学习时建议同时掌以下几题,集成电路制造工艺中主要有哪两种隔离工艺目前的主流深亚微米隔离工艺是哪种器件隔离工艺为什么。

摩尔分析了集成电路迅速发展的原因他指出集成度的提高主要是什么贡献。

如何衡量集成电路的制造水平。

相同的知识点，可以不同方式出题，建议一起学习掌握。