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MOS工艺包括有哪几种MOS工艺的重要参数是什么什么是特征尺寸
来源: 集成电路技术
发布时间:2017-02-18
题目铝栅MOS工艺的缺点是什么请注意与下面集成电路技术题目有着相似或相关知识点, CMOS包括哪几种具体工艺; 光刻工艺的主要流程有哪几步什么是光刻工艺的分辨率从物理角度看限制分辨率的因素是什么最常用的曝光光源是。
MOS工艺包括有哪几种MOS工艺的重要参数是什么什么是特征尺寸
学习时建议同时掌以下几题,掺杂的目的是什么掺杂在何时进行惨杂方法有哪几种。
什么是特征尺寸它对集成电路工艺有何影响。
MOS管的实际组成是什么基本参数是什么。
相同的知识点,可以不同方式出题,建议一起学习掌握。
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