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离子注入工艺需要控制的工艺参数及设备参数有哪些
来源: 集成电路技术
发布时间:2017-02-18
题目简述离子注入工艺中退火的主要作用请注意与下面集成电路技术题目有着相似或相关知识点, 离子注入法有哪些优点; 离子注入主要部件有哪些。
离子注入工艺需要控制的工艺参数及设备参数有哪些
学习时建议同时掌以下几题,与扩散源相比离子注入有哪些优点。
离子注入的缺点之一是注入设备的复杂性。
离子注入是唯一能够精确控制掺杂的手段。
相同的知识点,可以不同方式出题,建议一起学习掌握。
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