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刻蚀剖面指的是有两种基本的刻蚀剖面刻蚀剖面和刻蚀剖面
来源: 集成电路技术
发布时间:2017-02-18
题目各向异性的刻蚀剖面是在所有方向上横向和垂直方向以相同的刻蚀速率进行刻蚀请注意与下面集成电路技术题目有着相似或相关知识点, 在干法刻蚀中发生刻蚀反应的三种方法是和; 什么是干法刻蚀干法有几种刻蚀方法。
刻蚀剖面指的是有两种基本的刻蚀剖面刻蚀剖面和刻蚀剖面
学习时建议同时掌以下几题,湿法刻蚀和干法刻蚀的区别。
刻蚀速率通常正比于刻蚀剂的浓度。
从刻蚀工艺上可以将刻蚀分为什么种类。
相同的知识点,可以不同方式出题,建议一起学习掌握。
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