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区熔法是20世纪50年代发展起来的能生产到目前为止最纯的硅单晶含氧量非常少
来源: 集成电路技术
发布时间:2017-02-18
题目简述硅单晶研磨清洗的重要性请注意与下面集成电路技术题目有着相似或相关知识点, 将硅单晶棒制成硅片的过程包括哪些工艺; 硅锭直径从20世纪50年代初期的不到25mm增加到现在的300mm甚至更大其原因是什么。
区熔法是20世纪50年代发展起来的能生产到目前为止最纯的硅单晶含氧量非常少
学习时建议同时掌以下几题,CZ直拉法是按照在20世纪90年代初期它的发明者的名字来命名的。
20世纪90年代初期使用的第一台CMP设备是用样片估计抛光时间来进行终点检测的。
美国加州伯克利分校在20世纪70年代末推出的SPICE软件中包含的三个内建MOS场效应管模型是什么。
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