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现在国际上批量生产IC所用的最小线宽大致是多少是何家企业生产请举出三个以上在这种工艺中所采用的新技术
来源: 集成电路技术
发布时间:2017-02-18
题目在大规模集成电路中闩锁效应来自于MOS器件有源区PN结与衬底之间寄生的双极性晶体管请举出3种微电子工请注意与下面集成电路技术题目有着相似或相关知识点, 有光刻胶覆盖硅片的三个生产区域分别为光刻区刻蚀区和扩散区; 大马士革工艺的名字来源于几千年前叙利亚大马士革的一位艺术家发明的一种技术。
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学习时建议同时掌以下几题,比较投影掩模版和光学掩模版有何异同说明采用什么技术形成投影掩模版上的图形。
解释为什么目前CMOS工艺中常采用多晶硅栅工艺而不采用铝栅工艺。
什么是特征尺寸它对集成电路工艺有何影响。
相同的知识点,可以不同方式出题,建议一起学习掌握。
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