直播课程
制作硅栅具体步骤是什么
来源: 集成电路技术
发布时间:2017-02-18
题目简述硅栅p阱CMOS的光刻步骤请注意与下面集成电路技术题目有着相似或相关知识点, 解释为什么目前CMOS工艺中常采用多晶硅栅工艺而不采用铝栅工艺; 多晶硅栅的宽度通常是整个硅片上最关键的CD线宽。
制作硅栅具体步骤是什么
学习时建议同时掌以下几题,硅栅工艺有哪些优点。
N阱CMOS主要工艺步骤是什么。
在氧化层上形成所需要的图形的步骤是什么。
相同的知识点,可以不同方式出题,建议一起学习掌握。
2024年集成电路技术
考试报名审核系统
立即获取审核结果
一级建造师考生必刷题库
历年真题
历年真题
历年真题
历年真题
历年真题
历年真题
相关阅读
相关答疑
相关课程
热门资讯