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简述硅栅p阱CMOS的光刻步骤
来源: 集成电路技术
发布时间:2017-02-18
题目N阱CMOS主要工艺步骤是什么请注意与下面集成电路技术题目有着相似或相关知识点, 以p阱CMOS工艺为基础的BiCMOS的有哪些不足; 以P阱CMOS工艺为基础的BiCMOS工艺存在哪些缺点。
简述硅栅p阱CMOS的光刻步骤
学习时建议同时掌以下几题,解释为什么目前CMOS工艺中常采用多晶硅栅工艺而不采用铝栅工艺。
以N阱CMOS工艺为基础的BiCMOS工艺有哪些优缺点。
以N阱CMOS工艺为基础的BiCMOS的有哪些优缺点并请提出改进方法。
相同的知识点,可以不同方式出题,建议一起学习掌握。
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