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离子注入物质必须以带电粒子束或离子束的形式存在
来源: 集成电路技术
发布时间:2017-02-18
题目离子注入中静电扫描的主要缺点是离子束不能垂直轰击硅片会导致光刻材料的阴影效应阻碍离子束的注入请注意与下面集成电路技术题目有着相似或相关知识点, 扩散掺杂与离子注入掺杂所形成的杂质浓度分布各自的特点是什么与扩散掺杂相比离子注入掺杂的优势与缺点各是; 什么是离子注入损伤。
离子注入物质必须以带电粒子束或离子束的形式存在
学习时建议同时掌以下几题,离子注入的晶格损伤。
离子注入法有哪些优点。
离子注入的沟道效应。
相同的知识点,可以不同方式出题,建议一起学习掌握。
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