硅外延片的应用包括

题目硅外延生长工艺包括请注意与下面半导体芯片制造工题目有着相似或相关知识点, 下图为硅外延生长速度对H2中SiCL4摩尔分量的函数曲线试分析曲线走势并给出其变化的原因; 外延生长方法比较多其中主要的有外延外延金属有机化学气相外延分子束外延固相外延等。

硅外延片的应用包括

学习时建议同时掌以下几题,延生长方法比较多其中主要的有外延外延金属有机化学气相外延外延原子束外延固相外延等。

什么是固相外延SPE及固相外延中存在的问题。

外延层的迁移率低的因素有原材料纯度反应室漏气外延层的晶体系统沾污等载气纯度不够外延层晶体缺陷多生长工。

相同的知识点，可以不同方式出题，建议一起学习掌握。