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在扩散之前在硅表面先沉积一层杂质在整个过程中这层杂质作为扩散的杂质源不再有新的杂质补充这种扩散方式称
来源: 半导体芯片制造工
发布时间:2017-02-19
题目杂质原子的扩散方式有哪几种它们各自发生的条件是什么从原子扩散的角度举例说明氧化增强扩散和氧化阻滞扩散请注意与下面半导体芯片制造工题目有着相似或相关知识点, 恒定表面源扩散的杂质分布在数学上称为分布; 以P2O5为例多晶硅中杂质扩散的方式及分布情况。
在扩散之前在硅表面先沉积一层杂质在整个过程中这层杂质作为扩散的杂质源不再有新的杂质补充这种扩散方式称
学习时建议同时掌以下几题,杂质原子在半导体中的扩散机理比较复杂但主要可分为扩散和扩散两种。
假设进行一次受固溶度限制的预淀积扩散从掺杂玻璃源引入的杂质总剂量为Qcm-2。
恒定表面源扩散的杂质分布在数学上称为什么分布。
相同的知识点,可以不同方式出题,建议一起学习掌握。
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