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何为分辨率对比度IC制造对光刻技术有何要求
来源: 集成电路技术
发布时间:2017-02-18
题目光刻工艺的主要流程有哪几步什么是光刻工艺的分辨率从物理角度看限制分辨率的因素是什么最常用的曝光光源是请注意与下面集成电路技术题目有着相似或相关知识点, ULSI对光刻的要求; IC对金属材料特性有何要求。
何为分辨率对比度IC制造对光刻技术有何要求
学习时建议同时掌以下几题,光刻的曝光方式有几种各有何特点。
分辨率R。
光刻是集成电路制造工艺发展的驱动力。
相同的知识点,可以不同方式出题,建议一起学习掌握。
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