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在各种工艺中哪种工艺的速度最高哪种工艺的功耗最小
来源: 集成电路技术
发布时间:2017-02-18
题目解释质量输运限制CVD工艺和反应速度限制CVD工艺的区别哪种工艺依赖于温度LPCVD和APCVD各属请注意与下面集成电路技术题目有着相似或相关知识点, 集成电路制造工艺中主要有哪两种隔离工艺目前的主流深亚微米隔离工艺是哪种器件隔离工艺为什么; 为什么说速度和功耗是每一种工艺两个最重要的特性。
在各种工艺中哪种工艺的速度最高哪种工艺的功耗最小
学习时建议同时掌以下几题,哪种BiCMOS工艺用的较多为什么。
简述干氧氧化与湿氧氧化各自的特点通常用哪种工艺制备较厚的二氧化硅层。
现在国际上批量生产IC所用的最小线宽大致是多少是何家企业生产请举出三个以上在这种工艺中所采用的新技术。
相同的知识点,可以不同方式出题,建议一起学习掌握。
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