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简述光刻工艺原理及在芯片制造中的重要性
来源: 半导体芯片制造工
发布时间:2017-02-19
题目典型的光刻工艺主要有哪几步简述各步骤的作用请注意与下面半导体芯片制造工题目有着相似或相关知识点, 什么叫光刻光刻工艺质量的基本要求是什么; 光刻工艺一般都要经过涂胶曝光坚膜腐蚀等步骤。
简述光刻工艺原理及在芯片制造中的重要性
学习时建议同时掌以下几题,光刻工艺要求掩膜版图形黑白区域之间的反差要低。
光刻工艺是利用感光胶感光后抗腐蚀的特性在半导体晶片表面的掩膜层上的工艺。
气中的一个小尘埃将影响整个芯片的性率并影响其电学性能和性所以半导体芯片制造工艺需在超净厂房内进行。
相同的知识点,可以不同方式出题,建议一起学习掌握。
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