下图为一个典型的离子注入系统1给出1~6数字标识部分的名称简述其作用2阐述部件2的工作原理

题目在干法刻蚀的终点检测方法中光学放射频谱分析法最常见简述其工作原理和优缺点请注意与下面半导体芯片制造工题目有着相似或相关知识点, 简述BOE或BHF刻蚀SiO2的原理; 简述几种典型真空泵的工作原理。

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学习时建议同时掌以下几题,下图为直流等离子放电的I-V曲线请分别写出a-g各段的名称可用作半导体制造工艺中离子轰击的是其中哪一。

常用溅射技术有哪几种简述它们的工作原理和特点。

简述RTP设备的工作原理相对于传统高温炉管它有什么优势。

相同的知识点，可以不同方式出题，建议一起学习掌握。