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常用溅射技术有哪几种简述它们的工作原理和特点
来源: 半导体芯片制造工
发布时间:2017-02-19
题目在MEMS加工中为了精确控制腐蚀深度有哪几种腐蚀停止技术分别说一下其腐蚀停止原理请注意与下面半导体芯片制造工题目有着相似或相关知识点, 有哪几种常用的化学气相淀积薄膜的方法; 杂质原子的扩散方式有哪几种它们各自发生的条件是什么从原子扩散的角度举例说明氧化增强扩散和氧化阻滞扩散。
常用溅射技术有哪几种简述它们的工作原理和特点
学习时建议同时掌以下几题,Si-SiO2界面电荷有哪几种简述其来源及处理办法。
简述几种常用的氧化方法及其特点。
简述几种典型真空泵的工作原理。
相同的知识点,可以不同方式出题,建议一起学习掌握。
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