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什么是光刻光刻的主要流程有哪些
来源: 集成电路技术
发布时间:2017-02-18
题目光刻工艺的主要流程有哪几步什么是光刻工艺的分辨率从物理角度看限制分辨率的因素是什么最常用的曝光光源是请注意与下面集成电路技术题目有着相似或相关知识点, 什么是正光刻胶负光刻胶; 光刻包括两种基本的工艺类型负性光刻和两者的主要区别是所用光刻胶的种类不同前者是后者是。
什么是光刻光刻的主要流程有哪些
学习时建议同时掌以下几题,负性和正性光刻胶有什么区别和特点。
光刻的作用是什么。
什么是负光刻胶。
相同的知识点,可以不同方式出题,建议一起学习掌握。
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