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ULSI对光刻的要求
来源: 集成电路技术
发布时间:2017-02-18
题目何为分辨率对比度IC制造对光刻技术有何要求请注意与下面集成电路技术题目有着相似或相关知识点, SSIMSILSIVLSIULSI的中文含义是什么英文全拼是什么; 什么是光刻光刻的主要流程有哪些。
ULSI对光刻的要求
学习时建议同时掌以下几题,最早应用在半导体光刻工艺中的光刻胶是正性光刻胶。
光刻包括两种基本的工艺类型负性光刻和两者的主要区别是所用光刻胶的种类不同前者是后者是。
什么是正光刻胶负光刻胶。
相同的知识点,可以不同方式出题,建议一起学习掌握。
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