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常见的光刻对准曝光设备有
来源: 集成电路技术
发布时间:2017-02-18
题目步进光刻机的三个基本目标是对准聚焦曝光和合格产量请注意与下面集成电路技术题目有着相似或相关知识点, 光刻的曝光方式有几种各有何特点; 光刻工艺的主要流程有哪几步什么是光刻工艺的分辨率从物理角度看限制分辨率的因素是什么最常用的曝光光源是。
常见的光刻对准曝光设备有
学习时建议同时掌以下几题,曝光后烘焙简称后烘其对传统I线光刻胶是必需的。
什么是光刻光刻的主要流程有哪些。
最早应用在半导体光刻工艺中的光刻胶是正性光刻胶。
相同的知识点,可以不同方式出题,建议一起学习掌握。
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