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对正性光刻来说剩余不可溶解的光刻胶是掩膜版图__复制
来源: 集成电路技术
发布时间:2017-02-18
题目什么是正光刻胶负光刻胶请注意与下面集成电路技术题目有着相似或相关知识点, 最早应用在半导体光刻工艺中的光刻胶是正性光刻胶; 光刻包括两种基本的工艺类型负性光刻和两者的主要区别是所用光刻胶的种类不同前者是后者是。
对正性光刻来说剩余不可溶解的光刻胶是掩膜版图__复制
学习时建议同时掌以下几题,光刻胶。
什么是负光刻胶。
负性和正性光刻胶有什么区别和特点。
相同的知识点,可以不同方式出题,建议一起学习掌握。
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