恒定表面源扩散的杂质分布在数学上称为分布

题目恒定表面源扩散的杂质分布在数学上称为什么分布请注意与下面半导体芯片制造工题目有着相似或相关知识点, 在扩散之前在硅表面先沉积一层杂质在整个过程中这层杂质作为扩散的杂质源不再有新的杂质补充这种扩散方式称; 以P2O5为例多晶硅中杂质扩散的方式及分布情况。

恒定表面源扩散的杂质分布在数学上称为分布

学习时建议同时掌以下几题,什么是扩散效应什么是自掺杂效应这两个效应使得衬底/外延界面杂质分布有怎样的变化。

热退火用于消除离子注入造成的损伤温度要低于杂质热扩散的温度然而杂质纵向分布仍会出现高斯展宽与拖尾现象。

假设进行一次受固溶度限制的预淀积扩散从掺杂玻璃源引入的杂质总剂量为Qcm-2。

相同的知识点，可以不同方式出题，建议一起学习掌握。