简述杂质在SiO2的存在形式及如何调节SiO2的物理性质

题目以P2O2为例说明SiO2的掩蔽过程请注意与下面半导体芯片制造工题目有着相似或相关知识点, 说明SiO2的结构和性质并简述结晶型SiO2和无定形SiO2的区别; 简述BOE或BHF刻蚀SiO2的原理。

简述杂质在SiO2的存在形式及如何调节SiO2的物理性质

学习时建议同时掌以下几题,简述常规热氧化办法制备SiO2介质薄膜的动力学过程并说明在什么情况下氧化过程由反应控制或扩散控制。

Si-SiO2界面电荷有哪几种简述其来源及处理办法。

采用CF4作为气体源对SiO2进行刻蚀在进气中分别加入O2或H2对刻蚀速率有什么影响随着O2或H2进。

相同的知识点，可以不同方式出题，建议一起学习掌握。